Атомные станции с реактором ВВЭР-1000 Технологические регламенты Технологическое оборудование Атомные станции с реакторами РБМК 1000 Технологии энергосбережения АЭС с реакторами БН-600

Технологические регламенты. Оборудование атомной станции

Разделка кромки втулки сильфона под автоматическую сварку. Установить и закрепить механизм резки.

Разделать кромку втулки сильфона под сварку.

Демонтировать механизм резки.

Проверить правильность разделки. При необходимости обработку повторить.

Собрать и удалить продукты резки.

Выполнить переходы 1-5 для других ячеек согласно сменному заданию.
Перед каждой установкой механизма резки на втулку сильфона выполнить очистку механизма резки от стружки и проверить состояние резцов. При необходимости резцы заменить.

Операция №17.

Подготовка к сварке углового шва №3 ТК-сильфон.

Подать к ячейке устройство для подтяжки сильфона.

Выполнить устройством подтяжку сильфона выше на 5-10 мм от контрольного размера.

Обезжирить поверхность канала.

Опустить втулку сильфона до контрольного размера.
Количество резов втулки сильфона определять по формуле "N=R+1", где R – количество резов, выполненных до замены канала.

Произвести прихватку втулки сильфона к каналу в 3-4 точках.
Сварка ручная аргонодуговая без присадочной проволоки. Катет сварки 1-2 мм. Длина прихваток 5-6 мм. I сварки = 70 - 80 А.

Отвести устройство протяжки и транспортировать к следующей ячейке.

Обезжирить подготовленное сварное соединение.

Выполнить переходы 1-7 для других ячеек.

Операция №18.

Сварка углового шва №3 ТК-сильфон.

Установить и закрепить на канале сварочный автомат, подключить аппаратуру управления с источником питания.

Сварить аргонодуговой сваркой угловой шов соединения сильфон - канал. Сварка импульсная. Движение горелки только во время паузы. Т имп. = 1 - 1,2 сек, Т паузы = 0,6 - 0,9 сек, L дуги = 1,6 - 2,0 мм, I имп. = 120 - 130 А, I паузы = 25 - 30 А.

Демонтировать с канала сварочный автомат.

Выполнить зачистку и полировку сварного шва и околошовной зоны.
Сварной шов и околошовная зона должны быть очищены от пыли, грязи, окалины, забоин и неровностей. Шероховатость поверхности должна быть не более Rz 20 мкм.

Выполнить переходы 1-5 для других ячеек.

На главную